ZEISS DESVENDA INOVAÇÕES PARA MICROSCOPIA E METROLOGIA INDUSTRIAL EM EVENTO EXCLUSIVO

Encontro se destina a empresas e profissionais que pretendam fazer uma imersão nas últimas novidades que contribuam para a melhoria da precisão de máquinas e equipamentos.

“Desvendando Inovações em Microscopia e Metrologia Industrial” é o tema do workshop que a ZEISS, líder no desenvolvimento de soluções de metrologia multidimensional, vai promover no próximo dia 29, no Senai Santos Dumont, em São José dos Campos. O evento ocorrerá das 08h30 até o meio-dia e será conduzido por 03 renomados especialistas da equipe da ZEISS, cada um com temas de sua área de atuação.

Para mergulhar nas aplicações práticas da Microscopia, Metrologia e Tomografia Industrial, a ZEISS dividiu o encontro em três palestras e temas distintos:

Ricardo Torres – Especialista em Microscopia, vai falar sobre “Microscopia Avançada dos Materiais”, uma verdadeira “aula” sobre os avanços que a Microscopia traz para a análise de materiais, revelando descobertas fascinantes e como essa técnica está redefinindo as possibilidades na indústria.

Sebastião Santos – Gerente de Vendas da ZEISS, apresentará um verdadeiro “Guia para a CMM Perfeita em Sua Aplicação”. Entre outros segredos, Sebastião ensinará aos espectadores como escolher a Máquina de Medição por Coordenadas (CMM) ideal e indicada para cada aplicação.

Jefferson Martins – Especialista em Tomografia Computadorizada Industrial, desvendará os segredos daquilo que não se vê com o tema “Tomografia Industrial em Ação: Detectando o Invisível”. Como a tomografia industrial e sua capacidade única de revelar falhas e porosidades ocultas em materiais como alumínio e plástico podem ser decisivos para evitar acidentes e ocorrências indesejáveis sem destruição a das peças.

Será uma excelente oportunidade de transformar conhecimento em impacto prático na indústria! Use o link a seguir para inscrição: https://zeiss.ly/wsp_sjc

www.zeiss.com.br

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